技术英雄
说堵就堵，绝不含糊，谭二少爷可是个地地道道的行动派。
在与各大部委热热闹闹的签字仪式进行完毕后，他又随便与闻名前来与他套近乎的，华夏国内的所谓“PC四大金刚”简单应酬了一番，便匆匆登上了飞往米国的班机。
当然，在登机之前，已经有一份电报被加急发出，并让罗琳女士立刻忙碌了起来。
在谭振华的心中，手上这件事，可比和“四大金刚”拉拉关系顺便忽悠他们加入“Midr”行业联盟重要多了，那事回头让虞有成过来处理就好。
反正这什么“四大金刚”原本发家所依赖的“Wintel”联盟在本时空根本还没成气候就烟消云散了，他也不怕他们反了天去。
有同学肯定就要问了，这位林本兼到底是何方神圣，居然让二少爷如此心急火燎地要上杆子地想办法将其收入囊中呢？
那当然是因为，这个人关系到整个半导体行业的未来。
林本兼，男，华裔，1942年出生于安南，现年44岁，在湾岛就读高中，1970年获得米国俄亥俄州立大
学电机工程博士，随即进入IBM工作。
如果说张忠谋是改变了半导体行业整体竞争格局的领导者，那么，林本兼，就是半导体工业界的技术英雄。
要想清楚地了解他的重要性，还得从半导体制造流程中，最重要，也是技术门槛最高的那一样设备——光刻机说起。
时光回溯到1959年，那时，伟大的仙童公司已经成立了一年有余，公司的工程师赫尔尼先生在几经周折之后，终于发明了制造扩散型晶体管的“平面处理工艺”，应用这种工艺可以使晶体管制造就像印刷书籍一样高效。
“平面处理工艺”自诞生之日起，就成为制造集成电路的标准工艺并一直沿用至今，而这一工艺中最关键的一道流程，是把带有电路图的透光片正确投射到硅片上。
正确执行这道工艺流程的关键设备，就是光刻机。
起初，所有的光刻机都采用的是所谓“干式”，既以空气为介质的微影技术，这一技术一直沿用到二十世纪90年代，当然，随着技术的不断进步，镜头分辨率越来越高，所用光源的波长越来越短，能加工的晶圆尺寸也越来越大，工作过程也越来越自动化——就像摩尔定律遵循的那样，制造芯片对应的制程工艺也越来越细，从微米级一直下探到了纳米级。
但忽然有一天，就碰到了无法突破的壁垒，在65纳米制程上卡壳了。
因为，在很长一段时间内，人类无法突破光刻光源的技术瓶颈，只能使用波长为193n光源，却对升级成157n长光源所遇到的一系列问题束手无策。
尽管当时全世界动员了无数的科学家，众多企业和财团为此投入了海量的金钱，但，受到当时基础材料发展及工业加工能力的限制，还是没能迅速解决问题，当时的半导体业界甚至称157n是一堵墙”，让所有有志于尝试突破
的人都撞得头破血流，这一卡，就是十多年，直到进入了二十一世纪。
其实，在业界，早有人为此提出了解决方案，1986年，此时还在IBM从事成像技术研究的林本兼提出了一个天才的想法：他认为缩短波长的最佳方案是由“干式微影技术”转向“浸润式”。
但，就像历史上曾经多次重演过的一样，过于领先的天才想法注定得不到认同，当时整个半导体界还没在光源的波长面前撞墙并吃到苦头，他的“浸润式”技术方案无人问津。
说堵就堵，绝不含糊，谭二少爷可是个地地道道的行动派。
在与各大部委热热闹闹的签字仪式进行完毕后，他又随便与闻名前来与他套近乎的，华夏国内的所谓“PC四大金刚”简单应酬了一番，便匆匆登上了飞往米国的班机。
当然，在登机之前，已经有一份电报被加急发出，并让罗琳女士立刻忙碌了起来。
在谭振华的心中，手上这件事，可比和“四大金刚”拉拉关系顺便忽悠他们加入“Midr”行业联盟重要多了，那事回头让虞有成过来处理就好。
反正这什么“四大金刚”原本发家所依赖的“Wintel”联盟在本时空根本还没成气候就烟消云散了，他也不怕他们反了天去。
有同学肯定就要问了，这位林本兼到底是何方神圣，居然让二少爷如此心急火燎地要上杆子地想办法将其收入囊中呢？
那当然是因为，这个人关系到整个半导体行业的未来。
林本兼，男，华裔，1942年出生于安南，现年44岁，在湾岛就读高中，1970年获得米国俄亥俄州立大
学电机工程博士，随即进入IBM工作。
如果说张忠谋是改变了半导体行业整体竞争格局的领导者，那么，林本兼，就是半导体工业界的技术英雄。
要想清楚地了解他的重要性，还得从半导体制造流程中，最重要，也是技术门槛最高的那一样设备——光刻机说起。
时光回溯到1959年，那时，伟大的仙童公司已经成立了一年有余，公司的工程师赫尔尼先生在几经周折之后，终于发明了制造扩散型晶体管的“平面处理工艺”，应用这种工艺可以使晶体管制造就像印刷书籍一样高效。
“平面处理工艺”自诞生之日起，就成为制造集成电路的标准工艺并一直沿用至今，而这一工艺中最关键的一道流程，是把带有电路图的透光片正确投射到硅片上。
正确执行这道工艺流程的关键设备，就是光刻机。
起初，所有的光刻机都采用的是所谓“干式”，既以空气为介质的微影技术，这一技术一直沿用到二十世纪90年代，当然，随着技术的不断进步，镜头分辨率越来越高，所用光源的波长越来越短，能加工的晶圆尺寸也越来越大，工作过程也越来越自动化——就像摩尔定律遵循的那样，制造芯片对应的制程工艺也越来越细，从微米级一直下探到了纳米级。
但忽然有一天，就碰到了无法突破的壁垒，在65纳米制程上卡壳了。
因为，在很长一段时间内，人类无法突破光刻光源的技术瓶颈，只能使用波长为193n光源，却对升级成157n长光源所遇到的一系列问题束手无策。
尽管当时全世界动员了无数的科学家，众多企业和财团为此投入了海量的金钱，但，受到当时基础材料发展及工业加工能力的限制，还是没能迅速解决问题，当时的半导体业界甚至称157n是一堵墙”，让所有有志于尝试突破
的人都撞得头破血流，这一卡，就是十多年，直到进入了二十一世纪。
其实，在业界，早有人为此提出了解决方案，1986年，此时还在IBM从事成像技术研究的林本兼提出了一个天才的想法：他认为缩短波长的最佳方案是由“干式微影技术”转向“浸润式”。
但，就像历史上曾经多次重演过的一样，过于领先的天才想法注定得不到认同，当时整个半导体界还没在光源的波长面前撞墙并吃到苦头，他的“浸润式”技术方案无人问津。